UV光解廢氣處理設(shè)備的工作原理

 

UV光解廢氣處理設(shè)備的工作原理：

 

1、惡臭氣體使用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分化氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再經(jīng)過排風(fēng)管道排出室外。     

 

2、使用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，損壞細(xì)菌的核酸（DNA），再經(jīng)過臭氧進行氧化反應(yīng)，完全到達(dá)脫臭及殺滅細(xì)菌的意圖。    

 

UV光解廢氣處理設(shè)備的***點：

 

UV光解技術(shù)的***點： 本錢低價，運轉(zhuǎn)安穩(wěn)牢靠，無需專人關(guān)照，但在廢氣處理的速度上較慢，比較低溫等離子技術(shù)效率偏低。     

 

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)***四態(tài)，當(dāng)外加電壓到達(dá)氣體的放電電壓時，氣體被敏捷擊穿，發(fā)生包含電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中盡管電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個系統(tǒng)出現(xiàn)低溫狀況，所以稱為低溫等離子體。   低溫等離子體降解污染物是使用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分化，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以到達(dá)降解污染物的意圖。（注：低溫等離子體相對于高溫等離子體而言，歸于常溫運轉(zhuǎn)。） 等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時間內(nèi)發(fā)生分化，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以到達(dá)解說污染物的意圖。與傳統(tǒng)的電暈放電方式發(fā)生的低溫等離子技術(shù)比較較，等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍，這便是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)辦理工業(yè)廢氣99%以失敗而告終的原因。    

 

與目前***內(nèi)常用的異味氣體辦理辦法比較，等離子工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下***點： 低溫等離子體技術(shù)使用于惡臭氣體辦理，具有處理作用***，本錢盡管偏高，但運轉(zhuǎn)費用極低，無二次污染，運轉(zhuǎn)安穩(wěn)，操作辦理簡潔，即開即用等，瞬間就可以處理廢氣，效率高的一起，低溫等離子技術(shù)對環(huán)境的安全系數(shù)要求很高。

 

UV光解廢氣處理設(shè)備較其他廢氣處理設(shè)備的***勢：

 

1、UV光解即紫外光照耀技術(shù)，經(jīng)過紫外燈管發(fā)生的185nm光譜與253.7nm光譜對廢氣成分進行照耀，分化廢氣中的氧分子發(fā)生臭氧，使用臭氧對廢氣進行氧化分化的技術(shù)。該技術(shù)***要用于滅菌、消毒等工況。   

 

2、主體設(shè)備配備不同： UV光解設(shè)備內(nèi)部組成***要由紫外燈管、活性炭纖維過濾層組成。

 

3、去除才能不同：        

 

 UV光解發(fā)生臭氧氧化才能為1.24eV，只能氧化小部分廢氣組分。        

 

4、使用壽命不同：        

 

UV光解紫外燈管及電源（進口產(chǎn)品）8000小時?；钚蕴坷w維層依據(jù)廢氣濃度的不同替換比較頻頻。       

 

5、配備化使用安全防控辦法不同：        

 

UV光解主機設(shè)備基本無安全防控辦法。        

 

6、設(shè)備長周期運轉(zhuǎn)的保證辦法不同：         

 

UV光解主機內(nèi)部光量子管長周期運轉(zhuǎn)后管壁掛附的結(jié)焦物無在線清洗辦法，影響設(shè)備的運轉(zhuǎn)及去除效率。         

 

7、一次性出資及能耗不同：         

 

1）UV光解一次性出資略低。        

 

2）UV光解能耗低。